Fundamentos de Química Inorgánica: Ecuaciones, Estructura y Propiedades

Ecuaciones Químicas y Procesos de Reacción

• 2Al + 6NaOH → 2Na₃AlO₃ + 3H₂
• 2TiF₂ → TiF₄ + Ti
• CaF₂ + H₂SO₄ → CaSO₄ + 2HF
• NiO + H₂SO₄ → NiSO₄ + H₂O
• 2F₂ + S → SF₆
• 2NaBr + 2H₂SO₄ → Na₂SO₄ + 2H₂O + Br₂ + SO₂
• 8HNO₃ + 3Cu → 2NO + 4H₂O + 3Cu(NO₃)₂
• 4HNO₃ + Cu → 2NO₂ + 3H₂O + Cu(NO₃)₂
• Si + 3HCl → SiCl₃H + H₂
• 2Al₂O₃ + 3C → 3CO₂ + 4Al
• SiCl₄ + 2H₂ → 4HCl + Si
• 4NaOH + O₂ → 2H₂O + 4NaO₂
• LiH + BH₃ → Li(BH₄)
• 2KO₂ + 2H₂O → 2KOH + H₂O₂ + O₂
• Pb + PbO₂ + 2H₂SO₄ → 2PbSO₄ + 2H₂O
• Pb + 2Br₂ → PbBr₄
• 2Mg + CO₂ → 2MgO + C
• SiO₂ + 2Na₂CO₃ → Na₄SiO₄ + 2CO₂
• 2NaH + O₂ → 2NaOH

Conceptos Fundamentales de Estructura y Reactividad

• Carga formal: En el monóxido de carbono (CO), la carga formal es -1 para el C y +1 para el O.
• Geometría molecular (SF₄): Presenta una geometría de balancín.
• Reactividad: La especie con mayor reactividad es O₂²⁻.
• Ángulo de enlace (Grupo 16/Calcógenos): Disminuye al bajar en el grupo debido a la disminución de la electronegatividad del elemento central.
• Diagrama de Latimer (Nitrógeno): El N₂O es más oxidante en medio ácido que en medio básico.
• Fortaleza básica: NaOH > NH₃ > N₂H₄ > NH₂OH.
• Semiconductores: Dopar silicio con boro genera un semiconductor tipo P; dopar con arsénico genera un semiconductor tipo N.
• Seguridad química: No se puede usar CO₂ para extinguir fuegos de Mg metálico porque el Mg reduce al CO₂ de forma exotérmica.
• Procesos industriales: Obtención de sodio (Downs) y silicio (Czochralski). Obtención de carbonato de sodio (Solvay) y titanio (Kroll).

Propiedades Periódicas y Termodinámica

• Temperatura de descomposición de carbonatos: MgCO₃ < CaCO₃ < SrCO₃ < Na₂CO₃.
• Segunda energía de ionización: El Li presenta el valor más alto debido a la configuración de gas noble.
• Configuración electrónica (Pd): [Kr] 4d¹⁰.
• Hidruros: GeH₂, AsH₃ y SeH₂ forman una agrupación homogénea.
• Energía de ionización (Grupo 7): El Tc (Tecnecio) presenta la primera energía de ionización más baja.
• Punto de fusión: BeF₂ < MgF₂ < CaF₂ < SrF₂.
• Fortaleza ácida: HClO₄ > HBrO₄ > HClO > HBrO.
• Enlace deficiente en electrones: BeH₂.
• Carga nuclear efectiva (Al): 3.5.
• Ácido fosfinoso: H₂POH (o HPH₂O).
• Pureza de silicio: Se obtiene mediante el proceso de fusión por zonas.
• Naturaleza de óxidos: Na₂O (básico), Ga₂O₃ (anfótero), Cl₂O₇ (ácido).
• Estructuras: SiO₂ (polimérica), MgO (iónica), N₂O₄ (molecular).